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1. 引言近年來，3D 打印技術成為一種新興制造方式，其基本原理為“分層制造、逐層疊加”[1]。與傳統制造不同，3D 打印制造過程是將數字化信息技術與制造技術相融合，根據任意零件三...

磁控濺射鍍膜以其高速、低溫、低損傷等特點，可被用于濺射半導體、金屬、絕緣體等幾乎任何材料。因其具有制備簡單、附著力強、鍍膜面積大及易于控制等優點，廣泛應用于電子行業...

粉末冶金工藝是當下制造行業中不可缺少的技術之一，在制造行業中發揮著舉足輕重的作用。粉末冶金工藝也是材料制備過程中重要的技術，對于制備工藝材料性能也有很大的影響，對于材...

鈦及鈦合金具有強度高、耐高溫、耐腐蝕、無磁性等眾多優異性能，導致其在眾多領域都有十分廣泛的應用，例如：海洋工程、石油勘探、化學化工、航天航空等領域［１］。ＴＣ１８鈦合金為一種十分常...

外科植入物材料是用于對生物體進行治療、 修復、替換病損組織器官或增進其功能的材料，要求材料具有生物相容性、優良的機械性能和耐腐蝕性能，主要用于生物體硬組織和軟組織的...

高純濺射鉻靶材是近年來新研制和開發的一種靶材，先后在集成電路、液晶顯示屏、真空鍍膜及電子控制器件等多個領域得到了廣泛的應用，市場規模不斷擴大。鉻靶材可以采用多種方法...

本規范規定了航空用TA1、TA2、TA3、TA7、TA15、TA19、TC1、TC2、TC4、TC6、TC11、TC18、TB6鈦及鈦合金自由鍛件和模鍛件（以下簡稱鍛件）的要求、質量保證規定和交貨準備等。本...

鈦和鈦合金板在工業、航空等領域十分常見，具有強度高、耐蝕性好等優勢，成為廣泛應用的優質材料[1] 。但是，由于鈦合金在經過熱處理之后，往往會在表面形成氧化層，不僅對于鈦合金的...

TA15鈦合金的名義成分為 Ti-6.5Al-2Zr-1Mo-1V ［１］ ， 屬于高Al當量的近α型鈦合金， 其主要強化機制是通過α穩定元素Al的固溶強化， 加入中性元素Zr和β、 穩定元素Mo和Ｖ， 可以改善工...

靶材主要應用于電子及信息產業，如集成電路、信息存儲、液晶顯示屏、太陽能電池、電子控制器件等領域。隨著集成電路、太陽能和平面顯示器產業的發展，靶材的種類和市場規模日益...

鈦及鈦合金材料在核工業、化工石化、航空航天、體育用品、牙科和醫療修復等領域得到廣泛的應用[1-2]。鈦合金材料也被認為是替代或修復失效硬組織（結構生物醫學應用）的最佳選...

由于工業純鈦具有較好的綜合性能和優異的耐蝕性能，使它成為許多工業部分不可缺少的結構材料。如果是在水中，它可以在短時間里和氧發生反應，在其表面形成致密的氧化膜，使鈦產生良...

常用的鍛造方法及其優缺點1、自由鍛自由鍛是指用簡單的通用性工具，或在鍛造設備的上、下砧鐵之間直接對坯料施加外力,使坯料產生變形而獲得所需的幾何形狀及內部質量的鍛件的...

導讀：鍛造在中國有著悠久的歷史，它是以手工作坊的生產方式延續下來的。大概是在20世紀初。它才逐漸以機械工業化的生產方式出現在鐵路、兵工、造船等行業中。這種轉變的主要標...

由于鈦及鈦合金具有耐高溫、耐低溫、低密度和高比強度等眾多優點，在軍工、海洋、生物及化工等領域均有廣泛應用[1-2]。TA10鈦合金的名義成分為Ti-0.3Mo-0.8Ni，屬于一種常見的...

鈦合金是以Ti為主要成分的合金，并含鋁、釩、鐵和錳等元素以提高其性能。根據相組成不同，鈦合金可分為α鈦合金、β鈦合金和α–β鈦合金。其中α–β鈦合金 （如 Ti-6Al-4V）綜合...

1、前言靶材是濺射源的一種。通過多弧的離子態鍍膜系統或不同形態不同方式的鍍膜系統，或者是利用磁場控制濺射在嚴格可控的工藝以及一定的實驗條件下，濺射在不同功能的基板上...

隨著電子信息產業的飛速發展，薄膜科學應用日益廣泛。濺射法是制備薄膜材料的主要技術之一，濺射沉積薄膜的源材料即為靶材。用靶材濺射沉積的薄膜致密度高，附著性好。靶材的性能...

集成電路和平面顯示器用鈦靶材的應用及性能要求磁控濺射鈦靶材主要應用于電子及信息產業，如集成電路、平面顯示屏和家裝汽車行業裝飾鍍膜領域，如玻璃裝飾鍍膜和輪轂裝飾鍍膜等...

目前，鈮靶、鉻靶的制備主要包括特殊的熔融法和粉末冶金法。特殊的熔化方法：將具有一定組成比的合金原料熔化，然后將合金溶液倒入模具中形成鑄錠，最后機加工成目標材料。 鈮靶、...

全球航空業將保持強勁增長的勢頭，據空客預測，到2035 年航空市場對新增飛機的需求將帶來超過5 萬億美元的投資。而為了降低燃料消耗和減少碳排放，減重成為飛機制造商關注的核心...

金屬鈦和鈦濺射靶材基本相同，均由鈦元素組成。區別在于金屬鈦更像原材料，而鈦靶材更像鈦產品。鈦作為原料可以通過幾種方法制成鈦濺射靶材，它們廣泛用于電子，信息工業，家庭裝飾，汽...

1、靶材靶材（Target）是指可以通過磁控濺射、多弧離子鍍等鍍膜系統在適當工藝條件下濺射在基板上（玻璃、PET等）形成各種功能薄膜的濺射源。新型顯示面板（TFT-LCD、AMOLED等）常用的...

磁控濺射鍍膜以其高速、低溫、低損傷等特點，可被用于濺射半導體、金屬、絕緣體等幾乎任何材料。因其具有制備簡單、附著力強、鍍膜面積大及易于控制等優點，廣泛應用于電子行業...

鈦及鈦合金具有耐蝕性好、生物相容性好、比強度、疲勞強度高等優異性能，享有“戰略金屬”、“太空金屬”、“海洋金屬”及“生物金屬”等美譽。近年鈦及鈦合金技術被廣泛應用...

航空用鈦及鈦合金鍛件規范 GJB 2744A-2007，規定了TA1、TA2、TA3、TA7、TA15、TA19、TC1、TC2、TC4、TC6、TC11、TC18、TB6鈦及鈦合金自由鍛件和模鍛件（以下簡稱鍛件）的要求，質量...

1、前言鈦及鈦合金是一種優 良的結構材料 ，具有密度小、比強度高、塑韌性好 、耐熱蝕性好、可加工性較好等特點 ，因此廣泛應用 在航 空航天 、化工 、造船、冶金、儀器儀表等...

卷鋼涂料廣泛應用于建筑、家電、汽車、裝飾等領域[1-3]，與一般工業涂料不同，卷鋼涂料采用先涂裝后加工的生產工藝，因此涂層不但要有較高的硬度，以防止加工和使用時擦傷和劃傷，而...

隨著激光、離子束等技術發展，研究人員發明了多種工藝制備氧化物薄膜材料，而磁控濺射鍍膜技術由于其在大面積鍍膜以及性能參數易調控上的優勢，成為了工業及實驗室鍍膜的主流方式...

超高純金屬鎢（即純度達到99.9999% 以上）具有電阻率低、導熱系數高、高溫穩定性好、抗電子遷移能力強等特性，廣泛應用于超大規模集成電路[1，2]。鎢靶材通常以磁控濺射等方式沉積...

《靶材技術成熟度等級劃分及定義》國家標準GB/T 39157-2020，規定了靶材技術成熟度的術語和定義、等級劃分和判定規則。 本標準適用于靶材技術成熟度評價。該標準的詳細內容規...

中華人民共和國國家標準 GB/T3623-2007GB/T3623一2007 代替 GB/T3623-1998鈦及鈦合金絲 Titanium and titanium alloy wire2007-04-30 發布 2007-11-01 實施中華人民共和...

高純鈦濺射靶現在已廣泛應用于半導體裝置制造的金屬鍍工藝中! 日本的日礦材料公司生產高純鈦濺射靶"銅"鉭"鈷"鎢"鎳等高純金屬以及合金靶"鈦硅化物靶等!供給全世界的半導體...

目前，鉻靶材的制備主要包括特殊的熔融法和粉末冶金法。具體方法，凱澤金屬結合相關資料，整理如下：特殊的熔化方法：將具有一定組成比的合金原料熔化，然后將合金溶液倒入模具中形成鑄...

《外科植入物用鈦及鈦合金加工材國家標準GB/T 13810-2017》，本標準適用于外科植人物用鈦及鈦合金板材、鈦棒材和鈦絲材等鈦合金加工材的要求、試驗方法、檢驗規則及標志、包...

靶材的應用領域比較廣泛在半導體領域、面板顯示領域、光伏電池領域等領域中都有一定作用，而在半導體領域中應用的靶材就叫做半導體靶材，半導體靶材的應用要求比較嚴苛，對于靶材...